ĸ­èŠ¯DUV: 4重曝光技术迫近2nm?

æœ€è¿‘ï¼Œä¸€äº›æŠ€æœ¯ä¸šç•Œçš„è¯„è®ºå¼•å ‘äº†å¹¿æ³›å…³æ³¨ï¼Œä¸»è¦ å…³æ³¨çš„æ˜¯ä¸­å›½åœ¨æž·ç´«å¤–ï¼ˆDUVï¼‰å…‰åˆ»æŠ€æœ¯æ–¹é ¢çš„è¿›å±•ï¼Œå°¤å…¶æ˜¯é€šè¿‡4重曝光技术实现2çº³ç±³çš„èƒ½åŠ›ã€‚è¿™ä¸€è¿›å±•å¯¹äºŽä¸­å›½åœ¨å Šå¯¼ä½“è¡Œä¸šä¸­çš„åœ°ä½ å…·æœ‰æ·±è¿œçš„å½±å“ ã€‚

DUV光刻与先进制程

DUV（Deep Ultravioletï¼‰å…‰åˆ»æ˜¯åˆ¶é€ å Šå¯¼ä½“çš„å…³é”®æŠ€æœ¯ä¹‹ä¸€ã€‚ä¸Žæ›´å…ˆè¿›çš„æž«ç´«å¤–ï¼ˆEUV）光刻相比，DUVåœ¨åˆ¶é€ æ›´å° åž‹ã€ æ›´å¿«é€Ÿçš„èŠ¯ç‰‡æ–¹é ¢é ¢ä¸´è¯¸å¤šæŒ‘æˆ˜ã€‚4é‡æ›å…‰æŠ€æœ¯å ¯ä»¥è§†ä¸ºæ˜¯ä¸€ç§ è§£å†³æ–¹æ¡ˆï¼Œå®ƒåŒ…æ‹¬å¤šæ¬¡ä½¿ç”¨DUVå…‰åˆ»æ ¥åˆ›å»ºèŠ¯ç‰‡ä¸Šçš„æž å° åž‹å›¾æ¡ˆã€‚

4é‡æ›å…‰æŠ€æœ¯çš„å·¥ä½œåŽŸç †

4重曝光过程包括：

• **图案分解**ï¼šå°†å¤ æ ‚çš„èŠ¯ç‰‡å›¾æ¡ˆåˆ†è§£ä¸ºå‡ ä¸ªç®€å •çš„å±‚ã€‚
• **多次曝光**ï¼šæ¯ ä¸ªå±‚éƒ½éœ€è¦ ä½¿ç”¨DUV光刻进行多次曝光。
• **刻蚀**ï¼šåœ¨æ¯ æ¬¡æ›å…‰ä¹‹å Žï¼Œåˆ»èš€æŽ掉ä¸ æƒ³è¦ çš„æ 料。
• **é‡ å¤ è¿‡ç¨‹**ï¼šé‡ å¤ è¿™äº›æ¥éª¤ï¼Œç›´åˆ°å®Œæˆ 所有层。

é€šè¿‡è¿™ç§ æ–¹æ³•ï¼Œåˆ¶é€ å•†å ¯ä»¥åˆ›å»ºå‡ºæ¯”ä½¿ç”¨å •æ¬¡æ›å…‰æ›´å° çš„ç‰¹å¾ ã€‚

å¯¹ä¸­å›½å Šå¯¼ä½“ä¸šç•Œçš„å½±å“

如果中国真的在DUV 4é‡æ›å…‰æ–¹é ¢å –å¾—æ˜¾è‘—è¿›å±•ï¼Œå°†å¯¹å…¶å Šå¯¼ä½“ä¸šç•Œå ‘å±•äº§ç”Ÿé‡ å¤§å½±å“ ï¼š

• **å‡ å°‘ä¾ èµ–**ï¼šå ¯ä»¥å‡ å°‘å¯¹æ¥¼å…°ç‰©ç †ï¼ˆASMLï¼‰ç‰ å…¶ä»–å›½å®¶çš„EUVæŠ€æœ¯çš„ä¾ èµ–ã€‚
• **技术进æ¥**：促进国内的创新和技术进æ¥ã€‚
• **市场竞争力**ï¼šä½¿ä¸­å›½çš„å Šå¯¼ä½“åˆ¶é€ å•†åœ¨å…¨ç ƒå¸‚åœºä¸Šæ›´å…·ç«žäº‰åŠ›ã€‚

å¯¹æœªæ ¥çš„å±•æœ›

尽管DUV 4重曝光技术具有潜力，但是实现2çº³ç±³åˆ¶ç¨‹ä» æ—§é ¢ä¸´æŒ‘æˆ˜ï¼ŒåŒ…æ‹¬åŠ å·¥ç²¾åº¦ã€ æˆ æœ¬æ•ˆç›Šå’Œç”Ÿäº§æ•ˆçŽ‡ç‰ã€‚éš ç €ä¸­å›½ç»§ç»åœ¨å Šå¯¼ä½“ç ”å ‘æ–¹é ¢æŠ•å…¥ï¼Œè¿™äº›æŒ‘æˆ˜å ¯èƒ½ä¼šé€ æ¸ å¾—åˆ°è§£å†³ï¼Œä¸ºæœªæ ¥çš„æŠ€æœ¯è¿›æ¥å’Œå¸‚åœºæœºé ‡é’µå®šåŸºç¡€ã€‚